AG真人旗舰厅下一代光刻技术突破传统的光刻技术障碍
浏览： 次 发布时间：2024-07-18 14:38:55
这项微电子研究开发计划将耗资24．6亿美元…•○△，并分两期进行，2005年以前为研究阶段▽■▪，2005—2007年为工业开发阶段□•。
EUV LLC企业经理Chris Philippi说：“传统蚀刻技术前头有一堵墙挡道，而EUV正是让我们能继续依循摩尔定律的重大技术突破•◁▲▼。随着线宽的缩小AG真人旗舰厅，用于光蚀刻过程的光波波长也必须缩短。目前普遍采用的深度紫外线nm，相比之下•●-▲-▽，EUV使用的波长为13nm•☆☆，而这种光刻技术能够使印制电路的最小线μm-▪□=，从而使当今半导体业继续保持现有的创新加速度至2010年。”
三大巨头在联合新闻公报中说，三大公司将在位于法国东南部的伊泽尔建设一个研究开发中
将在大大提高半导体芯片性能的同时▽□，1500个直接就业和4500个间接就业机会◁◇，法意合资ST微电子◆…•、美国摩托罗拉☆◇、荷兰飞利浦三大公司决定共同投资，而且将使法国和整个欧洲在半导体工业生产领域位居世界首位。
法国政府表示，这是10多年来在法国本土进行的最大规模的工业投资☆▷★，不但将给法国创造
目的是在300am硅片上开发出线am的技术，在法国联合开发新一代半导体，这项研究成功后，即开发在一个集成电路上可容纳4亿个晶体管的半导体技术。进一步降低生产成本。心。旨在为成千上万种电子产品提供性能更好、价格更低廉的半导体芯片□△▽△。
目前芯片制造商普遍使用深紫外线光刻技术，而且已有很多芯片制造商转向0．131xm的芯片制造工艺AG真人旗舰厅，但这种深度紫外线蚀刻工艺在理论上仅能使印刷电路的最小尺寸为0．11xm，当印刷电路的最小线xm时▲□■=•，摩尔定律就会遭遇瓶颈-●○☆★，估计INTEL和AMD等芯片制造商到2004年或2005年就会碰到这种障碍，无法再生产更快速的芯片。这就是说，如果芯片厂商要突破这一障碍，势必需要新的蚀刻技术。
原型机近日在美国问世…=●★。这个命名为△=★★☆☆：“工程试验支架”(ETS)的原型机是由美国能源部下属的3个实验室和EUV LLC的半导体企业联盟共同开发的。